原子层沉积系统

仪器编号：202130510S

运行状态：正常

功率：8000 W

能源单价：4.52 元 / 小时

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：432 次

联系人电话：0551-63606554

ALD-T100H由是专门为先进集成电路工艺和特殊纳米涂层工艺研制的高温型、快速原子层沉积系统。系统结构紧凑、集成度高，可实现全流程自动化控制，可在平面及三维结构材料上沉积致密纳米薄膜，广泛应用于high-K栅极绝缘层、铁电材料、OLED封装层、太阳能电池钝化层、锂离子电池、光学元件镀膜、MEMS等诸多领域。