超高真空磁控溅射系统

仪器编号：2018601402

运行状态：正常

功率：25000 W

能源单价：3.96 元 / 小时

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：375 次

联系人电话：0551-63606554

本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜等材料，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。本系统主要由溅射室，一个直流溅射靶，两个ＲＦ溅射靶，一个有机源，直流溅射电源，ＲＦ溅射电源，配套液氮系统，样品转台，加热炉，泵抽系统，真空测量系统，气路系统，电控系统，水压报警系统和微观控制镀层系统等组成。